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大課題仍為降低系統(tǒng)發(fā)電成本。近年來(lái),作為光伏發(fā)電系統(tǒng)主體部件的太陽(yáng)電池,其技術(shù)創(chuàng)新進(jìn)步及產(chǎn)業(yè)規(guī)模擴(kuò)大皆已取得長(zhǎng)足發(fā)展。太陽(yáng)電池雖說(shuō)種類(lèi)繁多,由于研究開(kāi)發(fā)及各國(guó)多種普及推廣政策的促進(jìn),商業(yè)化薄膜果凍傳媒91制片進(jìn)入市場(chǎng)以來(lái),晶體硅的性能已取得尤為顯著的進(jìn)步且電池的效率仍存在進(jìn)一步提升潛力,近年來(lái)產(chǎn)業(yè)化規(guī)模書(shū)張速度更為驚人。與此同寸,各種薄膜電池的研發(fā)成果及產(chǎn)業(yè)化技術(shù)也在不斷涌現(xiàn)。下面,簡(jiǎn)要對(duì)硅系薄膜太陽(yáng)電池,頒濱騁廠、頒誨罷別及染料敏化等薄膜太陽(yáng)電池進(jìn)行介紹,以便讀者針對(duì)不同應(yīng)用作出適當(dāng)選用。
硅薄膜
硅薄膜,包括非晶硅、微晶硅、多晶硅薄膜果凍傳媒91制片。
在晶體硅太陽(yáng)電池中,真正起發(fā)電作用的僅是硅片表面附近的很少部分,離表面較遠(yuǎn)部分并不直接起發(fā)電作用。為了盡量節(jié)約硅材料,有效降低生產(chǎn)成本,正向薄片化方向發(fā)展。目前硅片厚度已降至200辮塵以下;另一方面,就是向薄膜化方向發(fā)展。是早實(shí)現(xiàn)進(jìn)入市場(chǎng)的商業(yè)化。
,是在非硅的襯底上制作很薄的硅薄膜來(lái)發(fā)電,制作硅薄膜的方法普遍采用等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法簡(jiǎn)而言之就是把原材料硅烷(SiH4) 利用輝光放電使其分解,借助化學(xué)反應(yīng)在襯底上堆積硅海膜。非晶硅中的原子大致上保持與晶體硅相同的基本結(jié)構(gòu)。晶體硅是每個(gè)硅原子通過(guò)共價(jià)鍵與其他4個(gè)硅原子鍵合成四面體,摻氫非晶硅僅以共價(jià)鍵與其他3個(gè)相鄰的硅原子相鍵合,而硅的第1個(gè)價(jià)原子與氫原子鍵合。在摻氫非晶硅中,化合氫的含量用原子百分?jǐn)?shù)表示占10%左右。這些氫原子會(huì)直接對(duì)懸掛鍵 (dangling bond)缺陷結(jié)合,減少對(duì)電子的捕獲,以達(dá)到非品硅的低缺陷密度,使其能夠作為太陽(yáng)電池應(yīng)用,下面, 從應(yīng)用者視角,有必要關(guān)注如下幾點(diǎn),
、 非晶體太陽(yáng)電池基本也是筆-狽結(jié)構(gòu),其工作與晶體硅太陽(yáng)電池沒(méi)有大的區(qū)別,但是有幾個(gè)重要不同點(diǎn)。
首先,單晶硅是間接躍遷型半導(dǎo)體,其吸收系數(shù)較小,為了充分吸收太陽(yáng)光,需要200恥塵的膜厚。相對(duì)應(yīng)的非晶硅是直接躍遷型半導(dǎo)體,吸收系數(shù)上升很快,其值較大。因此,為滿足太陽(yáng)電池要求,其膜厚一般為0.3~0.6恥塵,可實(shí)現(xiàn)薄膜化。
另外,,而是P-IN結(jié)構(gòu)。通常非晶硅的P-N結(jié)不顯示整流性,而顯示近似于歐姆接觸的特性。這是因?yàn)镻層及N層的缺陷能級(jí)密度很大,受限于通過(guò)這種缺陷之間的復(fù)合電流或隧道電流,因此作為太陽(yáng)電池,設(shè)定P層與N層中間的摻雜層為1層,形成P-I-N結(jié)構(gòu)。I層的缺陷能級(jí)為1015eV-↓.cm-3.大部分區(qū)域都被耗盡,可以通過(guò)過(guò)渡層內(nèi)的電場(chǎng)從P層至N層收集光生載流子。另外,由于P層及N層的缺陷能級(jí)密度較高,當(dāng)作為光電轉(zhuǎn)換層時(shí),考慮到內(nèi)層是死層(dead layer),當(dāng)厚度較厚時(shí),不能忽略串聯(lián)電阻。因此,非晶體太陽(yáng)電池采用厚度為數(shù)十納米的P、N層,中間有0.3~0.6yum的I層的結(jié)構(gòu)。
該結(jié)構(gòu)的非晶硅和晶體硅的電流電壓特性的比較。在光照射下,晶體硅太陽(yáng)電池的電流電壓特性可大致表示成暗狀態(tài)下的電流-電壓特性中加入光電流。相對(duì)地,非晶硅太陽(yáng)電池的電流-電壓特性顯示偏壓特性。也就是說(shuō),加入正向偏壓會(huì)減少光電流。晶體硅太陽(yáng)電池的少數(shù)載流子擴(kuò)散長(zhǎng)度較長(zhǎng),對(duì)光電流有作用的主要是在耗盡層以外的中性區(qū)域中發(fā)生的載流子。另外,加入正向偏壓時(shí),電位與耗盡層兩端有關(guān),對(duì)激勵(lì)載流子的收集效率沒(méi)有影響,因此光電流并不能表示偏壓特性。另一方面,非晶的少數(shù)載流子擴(kuò)散長(zhǎng)度較短,電場(chǎng)區(qū)域以外光電流的作用較小。對(duì)光電流起作用的是濱層內(nèi)激勵(lì)的載流子。這時(shí)收集載流子,與偏壓無(wú)關(guān),濱層內(nèi)的電場(chǎng)很強(qiáng),收集效率也很高。但是加入正向偏壓的話,濱層內(nèi)的電場(chǎng)會(huì)減弱,在光入射側(cè)深處,激勵(lì)的載流子復(fù)合又喪失,載流子收集效率降低。因此
、谛g(shù) ,其支撐襯底的種類(lèi)大致可分為兩類(lèi):種是將玻璃等透光性襯底作為光人射側(cè)支撐的結(jié)構(gòu) ,一般由襯底/透明導(dǎo)電性氧化物(TCO) /P層/1層/N層/背面電極構(gòu)成;另一種是將塑料等不透光性支撐襯底用于太陽(yáng)電池背面的結(jié)構(gòu)[圖5-59(b) ],由金屬柵極/TCO層/P層/1層/N層/背面電極/村底構(gòu)成。不管是何種結(jié)構(gòu),非晶體太陽(yáng)電池的半導(dǎo)體層一般都是由P層/層/N層這三層構(gòu)成。1層是光電流生成層及輸送層,P層和N層是生成促進(jìn)1層中載流子漂移的內(nèi)建電場(chǎng),。
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